Tha am pròiseas gas sònraichte a thathar a 'cleachdadh ann am pròiseas saothrachaidh TFT-LCD pròiseas tasgaidh CVD: silane (S1H4), ammonia (NH3), phosphorne (pH3), gàire (N2O), NF3, msaa, agus a bharrachd air a' phròiseas pròiseas Àrd purity hydrogen agus nitrigin fìor-ghlan agus gasaichean mòra eile.Thathas a ’cleachdadh gas argon anns a’ phròiseas sputtering, agus is e gas film sputtering am prìomh stuth airson sputtering.An toiseach, chan urrainnear am film a tha a’ cruthachadh gas a bhith ag ath-fhreagairt gu ceimigeach leis an targaid, agus is e gas inert an gas as freagarraiche.Bidh mòran de ghas sònraichte cuideachd air a chleachdadh anns a’ phròiseas sgudail, agus tha an gas sònraichte dealanach sa mhòr-chuid lasanta agus spreadhaidh, agus an gas fìor phuinnseanta, agus mar sin tha na riatanasan airson an t-slighe gas àrd.Tha Wofly Technology gu sònraichte a’ dealbhadh agus a’ cur a-steach siostaman còmhdhail fìor-ghlan.
Tha gasaichean sònraichte air an cleachdadh sa mhòr-chuid ann an gnìomhachas LCD airson pròiseasan cruthachadh agus tiormachadh film.Tha measgachadh farsaing de sheòrsachadh aig an taisbeanadh criostail liùlach, far a bheil an TFT-LCD luath, tha càileachd ìomhaigh àrd, agus tha a ’chosgais air a lughdachadh mean air mhean, agus thathas a’ cleachdadh an teicneòlas LCD as fharsainge an-dràsta.Faodar pròiseas saothrachaidh a ’phannal TFT-LCD a roinn ann an trì prìomh ìrean: an raon aghaidh, pròiseas bogsaidh meadhanach-amas (CELL), agus pròiseas cruinneachaidh modal iar-ìre.Tha an gas sònraichte dealanach air a chuir an sàs sa mhòr-chuid ann an ìre cruthachadh film agus ìre tiormachaidh a ’phròiseas rèite roimhe, agus tha film neo-mheatailt SiNX agus geata, stòr, drèanadh agus ITO air an tasgadh, fa leth, agus film meatailt leithid geata, stòr, drain agusITO.
Ùine puist: Faoilleach 13-2022